ナノフラットウエハチャック / NANOFLAT Wafer Chuck
主要露光装置、検査装置に対応可能
特長
- ウエハ裏面の異物の影響を低減
- ウエハ周辺の平坦度を改善
- ウエハの反りの影響を改善
平坦度 SFQR 26mm×8mm
導入効果例
 |
ウエハチャック |
HOME＞半導体製造装置＞ウエハチャック |
検索 by Google
|
|||
ナノフラットウエハチャック / NANOFLAT Wafer Chuck主要露光装置、検査装置に対応可能 特長
平坦度 SFQR 26mm×8mm
導入効果例
|
検索 by Google
|
||
| | 利用規約 | 個人情報の保護について | | |||
| Copyright(c)2003-2008 Renesas Eastern Japan Semiconductor,Inc. All Rights Reserved. | |||
