ナノフラットウエハチャック / NANOFLAT Wafer Chuck
主要露光装置、検査装置に対応可能
特長
- ウエハ裏面の異物の影響を低減
- ウエハ周辺の平坦度を改善
- ウエハの反りの影響を改善
本製品は2009年5月末日をもちまして
製造販売を終了させて頂きます。
製造販売を終了させて頂きます。
平坦度 SFQR 26mm×8mm
導入効果例
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ウエハチャック |
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